Cada vez, el mundo de la moda está descubriendo que Perú es un país que cuenta con personas muy talentosas en ese rubro. Entre ellas tenemos a Ana María Guiulfo, diseñadora peruana que viajará el próximo mes a Nueva York para participar en el Epson Digital Couture Project 2018 y presentar su nueva colección cápsula ‘Too Much Information’, la cual está inspirada en la energía, movimiento y colores del folclore peruano.
“Este nuevo trabajo se adapta a cualquier lugar del planeta y se combina con el estilo chic y versátil de los años setenta. Nos introduce a un mundo de color, diversión y sofisticación en el cual son reflejadas también las riquezas naturales y culturales del Perú”, comentó Ana María Guiulfo.
También, Guiulfo agregó que sus prendas están hechas para aquellas mujeres que aman la libertad y deciden por sí mismas. Ella afirma que solamente hace el 50% del look, lo restante lo pone la persona que lo viste.
El evento se realizará el 6 de febrero, previo a la Semana de la Moda de Nueva York y en este se exhibirán las colecciones de diseñadores de Latinoamérica y Norteamérica que combinan la tecnología y la moda a través de la técnica de sublimación textil que consiste en estampar diseños a color sobre el tejido con ayuda de una impresora especial.